產(chǎn)品中心
Product Center當(dāng)前位置:首頁產(chǎn)品中心薄膜、塊體樣品制備ALD原子層沉積設(shè)備PICOSUN P-300B型原子層沉積系統(tǒng)
原子層沉積系統(tǒng)
product
產(chǎn)品分類PICOSUN®P-300B ALD 系統(tǒng)是專為生產(chǎn) MEMS 設(shè)備(例如打印頭,傳感器和麥克風(fēng)) 以及各種3D 物品(例如機(jī)械零件,玻璃或金屬薄板,硬幣,手表零件和珠寶,鏡片,光學(xué)器件以及醫(yī)療設(shè)備和植入物。
該系統(tǒng)已經(jīng)成為高產(chǎn)能ALD制造業(yè)的新標(biāo)準(zhǔn)。擁有的熱壁、獨立的前驅(qū)體管路和特殊的載氣設(shè)計,確保我們可以生產(chǎn)出具有優(yōu)異的成品率、低顆粒水平和的電學(xué)和光學(xué)性能的高質(zhì)量ALD薄膜。高效緊湊的設(shè)計使得維護(hù)更加方便、快捷,限度的減少了系統(tǒng)的維護(hù)停工期和使用成本。擁有技術(shù)的Picoflow™使得在超高深寬比結(jié)構(gòu)上沉積保形性薄膜更高效,并已在生產(chǎn)線上得到驗證。